Высокадакладная лазерная перфарацыя шкла і пластыка

Высокадакладная лазерная перфарацыя для шкла і пластыка

Кароткае апісанне:

Дыяметры адтулін: 1~30 мкм,

Ужыванне: флаконы, ампулы, інфузійныя пакеты, пластыкавыя бутэлькі і інш.

Дэталь прадукту

Тэгі прадукту

Асаблівасці:

1. Высокамагутны і высокастабільны УФ-лазер выкарыстоўваецца для непасрэднай абляцыі выпаранага матэрыялу з зонай тэрмічнага ўздзеяння на ўзроўні мкм і мінімальнай плямай апрацоўкі 5 мкм.

2. Зрух прамяня кантралюецца на высокай хуткасці і высокай дакладнасці з дапамогай прэцызійнага гальванометра для рэалізацыі высакахуткаснага дакладнага тручэння малога фармату.

3. Дакладнае пазіцыянаванне і апрацоўка высокадакладных мікраадтулін рэалізуецца трансляцыяй этапу высокадакладнай трансляцыі;

4. Вось Z электрычна рэгулюецца для дакладнай факусоўкі ў адпаведнасці з патрабаваннямі апрацоўкі матэрыялаў рознай таўшчыні.

5. Высокая дакладная факусоўка далямернай прамысловай камеры з высокім дазволам забяспечвае доўгатэрміновую стабільнасць і дакладнасць сістэмы.

6. У сістэме выкарыстоўваюцца мармуровыя стальніцы для паляпшэння агульнай стабільнасці сістэмы, і ўсе механічныя кампаненты старанна адабраны для забеспячэння доўгатэрміновай дакладнасці.

7. Яго можна выкарыстоўваць для апрацоўкі металаў, керамікі, арганікі, шкла і іншых матэрыялаў для атрымання тручэння, глухіх адтулін, скразных адтулін, прарэзаў, рэзкі і г.д.

8. Мінімальная шырыня лініі апрацоўкі менш за 5 мкм.

Дыяпазон прымянення:

Рэзка паўправадніковых гнуткіх плат, тручэнне плёнкі ITO, вытворчасць мікраэлектронных прылад, падрыхтоўка шаблонаў для друку, падрыхтоўка біячыпаў, прэцызійныя мікрасхемы

Фарміраванне цвілі


Прадметы	Параметр	FM-UVD5	FM-UVSD5	FM-UPVD12
Лазерная	хваля	355 нм	355 нм	355 нм
	Магутнасць	5 Вт пры 30 кГц	5 Вт пры 30 кГц	12 Вт пры 100 кГц
	частата мадуляцыі	1~200 кГц	1~200 кГц	1~2000 кГц
	Шырыня імпульсу	20 нс пры 30 кГц	20 нс пры 30 кГц	7 нс пры 100 кГц
	якасць прамяня	<1,3	<1,3	<1,3
Гальва	Вобласць сканавання	<50*50 мм	<50*50 мм	<50*50 мм
	Дакладнасць паўтаральнасці	＜1 мкм	＜1 мкм	＜1 мкм
	Хуткасць сканавання	≤3 м/с	≤3 м/с	≤3 м/с
	Хуткасць пазіцыянавання	≤6 м/с	≤6 м/с	≤6 м/с
Табліцы XY	Падарожжа	–	300*300 мм	300*300 мм
	Дакладнасць паўтаральнасці	–	≤±5 мкм	≤±1 мкм
	Дакладнасць пазіцыянавання	–	≤±25 мкм	≤±3 мкм
Вось Z	Падарожжа	50 мм	50 мм	50 мм
	Дакладнасць паўтаральнасці	≤±3 мкм	≤±3 мкм	≤±3 мкм
	Дакладнасць пазіцыянавання	≤±15 мкм	≤±15 мкм	≤±15 мкм
ПЗС маніторынг пазіцыянавання	Камера	пяць мегапікселяў	пяць мегапікселяў	пяць мегапікселяў
ПЗС маніторынг пазіцыянавання	Аптычнае павелічэнне	8X	8X	8X
Апрацоўка	Мінімум месца	5 мкм	5 мкм	5 мкм
	Дакладнасць апрацоўкі адтулін	±5 мкм	±5 мкм	±5 мкм
	Дакладнасць паўтаральнасці	≤±2 мкм	≤±2 мкм	≤±2 мкм
	Даступныя матэрыялы для апрацоўкі	Шкло метал, 有机物等
Ужыванне	Бутэлька-труба	ok	добры	добры
	памерці бутэльку	ok	добры	добры
	Пластыкавая бутэлька	не добра	ok	добры
	Мяккія сумкі	Няма даступных	ok	добры
Сістэма астуджэння	Вадзяны астуджальны сродак (магутнасць астуджэння 1500 Вт)
Блок харчавання	220 В, 50 ~ 60 Гц, 1 фаза або індывідуальны
Вымярэнне (мм)	150010001800			160013001800
Вага (кг)	1500			2000 год
Мікраскапічнае аздабленне вымярэнняў апрацаваных узораў