গ্লাস এবং প্লাস্টিকের জন্য উচ্চ নির্ভুলতা লেজারের ছিদ্র
বৈশিষ্ট্য:
1. উচ্চ-শক্তি এবং উচ্চ-স্থিতিশীল UV লেজারটি μm-স্তরের তাপ-আক্রান্ত জোন এবং ন্যূনতম 5μm প্রসেসিং স্পট সহ বাষ্পীভূত উপাদানগুলিকে সরাসরি বিলুপ্ত করতে ব্যবহৃত হয়।
2. ছোট বিন্যাসের উচ্চ-গতির নির্ভুলতা এচিং উপলব্ধি করার জন্য বিম শিফ্টটি উচ্চ গতিতে এবং উচ্চ নির্ভুলতায় নিয়ন্ত্রিত হয় স্পষ্টতা গ্যালভানোমিটার দ্বারা।
3. উচ্চ-নির্ভুলতা মাইক্রো-হোলের সুনির্দিষ্ট অবস্থান এবং প্রক্রিয়াকরণ উচ্চ-নির্ভুল অনুবাদ পর্যায়ে অনুবাদ দ্বারা উপলব্ধি করা হয়;
4. Z-অক্ষ বিভিন্ন বেধ সহ উপকরণগুলির প্রক্রিয়াকরণের প্রয়োজনীয়তা মেটাতে সুনির্দিষ্ট ফোকাস করার জন্য বৈদ্যুতিকভাবে সামঞ্জস্যযোগ্য।
5. রেঞ্জফাইন্ডার উচ্চ-রেজোলিউশন শিল্প ক্যামেরার উচ্চ-নির্ভুলতা ফোকাসিং সিস্টেমের দীর্ঘমেয়াদী স্থায়িত্ব এবং নির্ভুলতা নিশ্চিত করে।
6. সিস্টেমের সামগ্রিক স্থায়িত্ব উন্নত করতে সিস্টেম মার্বেল কাউন্টারটপ গ্রহণ করে এবং দীর্ঘমেয়াদী নির্ভুলতা নিশ্চিত করার জন্য সমস্ত যান্ত্রিক উপাদান সাবধানে নির্বাচন করা হয়।
7. এটি ধাতু, সিরামিক, জৈব, কাচ এবং অন্যান্য উপকরণগুলিকে এচিং, ব্লাইন্ড হোল, ছিদ্র, স্লটিং, কাটা ইত্যাদির মাধ্যমে প্রক্রিয়া করতে ব্যবহার করা যেতে পারে।
8. ন্যূনতম প্রক্রিয়াকরণ লাইন প্রস্থ 5μm এর চেয়ে কম।
আবেদন পরিসীমা:
সেমিকন্ডাক্টর নমনীয় সার্কিট বোর্ড কাটিং, আইটিও ফিল্ম এচিং, মাইক্রোইলেক্ট্রনিক ডিভাইস ম্যানুফ্যাকচারিং, প্রিন্টিং টেমপ্লেট প্রস্তুতি, বায়োচিপ প্রস্তুতি, নির্ভুল মাইক্রো
ছাঁচ গঠন
 | ||||
| আইটেম | প্যারামিটার | FM-UVD5 | FM-UVSD5 | FM-UPVD12 |
| লেজার | তরঙ্গ | 355nm | 355nm | 355nm |
| শক্তি | 5W@30kHz | 5W@30kHz | 12W@100kHz | |
| মড্যুলেটিং ফ্রিকোয়েন্সি | 1~200kHz | 1~200kHz | 1~2000kHz | |
| নাড়ির প্রস্থ | 20ns@30kHz | 20ns@30kHz | 7ns@100kHz | |
| মরীচি গুণমান | ~1.3 | ~1.3 | ~1.3 | |
| গ্যালভো | স্ক্যান এলাকা | ~50*50মিমি | ~50*50মিমি | ~50*50মিমি |
| পুনরাবৃত্তিযোগ্যতা নির্ভুলতা | 1um | 1um | 1um | |
| স্ক্যানের গতি | ≤3মি/সেকেন্ড | ≤3মি/সেকেন্ড | ≤3মি/সেকেন্ড | |
| পজিশনিং গতি | ≤6মি/সেকেন্ড | ≤6মি/সেকেন্ড | ≤6মি/সেকেন্ড | |
| XY টেবিল | ভ্রমণ | - | 300*300 মিমি | 300*300 মিমি |
| পুনরাবৃত্তিযোগ্যতা নির্ভুলতা | - | ≤±5um | ≤±1um | |
| অবস্থান নির্ভুলতা | - | ≤±25um | ≤±3um | |
| Z অক্ষ | ভ্রমণ | 50 মিমি | 50 মিমি | 50 মিমি |
| পুনরাবৃত্তিযোগ্যতা নির্ভুলতা | ≤±3um | ≤±3um | ≤±3um | |
| অবস্থান নির্ভুলতা | ≤±15um | ≤±15um | ≤±15um | |
| সিসিডি পর্যবেক্ষণ অবস্থান | ক্যামেরা | পাঁচ মেগাপিক্সেল | পাঁচ মেগাপিক্সেল | পাঁচ মেগাপিক্সেল |
| অপটিক্যাল ম্যাগনিফিকেশন | 8X | 8X | 8X | |
| প্রক্রিয়াকরণ | ন্যূনতম স্পট | 5um | 5um | 5um |
| গর্ত প্রক্রিয়াকরণ নির্ভুলতা | ±5um | ±5um | ±5um | |
| পুনরাবৃত্তিযোগ্যতা নির্ভুলতা | ≤±2um | ≤±2um | ≤±2um | |
| প্রক্রিয়াকরণের জন্য উপলব্ধ উপকরণ | কাচের ধাতু, 有机物等 | |||
| আবেদন | পাইপ বোতল | ok | ভাল | ভাল |
| ডাই বোতল | ok | ভাল | ভাল | |
| প্লাস্টিকের বোতল | ভাল না | ok | ভাল | |
| নরম ব্যাগ | কোন উপলব্ধ | ok | ভাল | |
| কুল্যান্ট সিস্টেম | জল কুল্যান্ট (1500W কুলিং ক্ষমতা) | |||
| পাওয়ার সাপ্লাই | 220V, 50~60HZ, 1 ফেজ বা কাস্টমাইজড | |||
| পরিমাপ(মিমি) | 1500*1000*1800 | 1600*1300*1800 | ||
| ওজন (কেজি) | 1500 | 2000 | ||
| প্রক্রিয়াকৃত নমুনার মাইক্রোস্কোপিক পরিমাপ সমাপ্তি |   | |||
দ্রষ্টব্য: ধ্রুবক তাপমাত্রা (25±0.5℃), 30 মিনিটের জন্য প্রিহিট করার পরে প্রাপ্ত
