ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਲਈ ਮਾਈਕ੍ਰੋਪੋਰ ਲੇਜ਼ਰ ਪਰਫੋਰਰੇਸ਼ਨ ਮਸ਼ੀਨ
ਨਿਊਨਤਮ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਮਾਈਕ੍ਰੋਪੋਰ ਵਿਆਸ 5μm ਹੈ, ਸਮੁੱਚੀ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ±4μm ਹੈ, ਸਥਾਨਕ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾ ਸ਼ੁੱਧਤਾ 3μm ਤੋਂ ਘੱਟ ਹੈ, ਅਤੇ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਚੌੜਾਈ 300*300mm ਹੈ।.
ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਇਸ ਲਈ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ: ਮਾਈਕ੍ਰੋਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨਿਕ ਡਿਵਾਈਸ ਨਿਰਮਾਣ, ਪ੍ਰਿੰਟਿੰਗ ਟੈਂਪਲੇਟ ਦੀ ਤਿਆਰੀ, ਬਾਇਓਚਿੱਪ ਤਿਆਰੀ, ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਮੋਲਡ ਬਣਾਉਣਾ, ਇੰਸਟਰੂਮੈਂਟੇਸ਼ਨ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੇ ਹਿੱਸੇ ਨਿਰਮਾਣ
1. ਇੱਕ μm-ਪੱਧਰ ਦੀ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਅਪਰਚਰ ਅਤੇ ਇੱਕ μm-ਪੱਧਰ ਦੀ ਗਰਮੀ-ਪ੍ਰਭਾਵਿਤ ਜ਼ੋਨ ਦੇ ਨਾਲ, ਗੈਸੀਫੀਕੇਸ਼ਨ ਸਮੱਗਰੀ ਨੂੰ ਸਿੱਧਾ ਬੰਦ ਕਰਨ ਲਈ ਉੱਚ-ਸ਼ਕਤੀ ਅਤੇ ਉੱਚ-ਸਥਿਰਤਾ ਵਾਲੇ UV ਲੇਜ਼ਰ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਨਾ;
2. ਉੱਚ-ਸਪੀਡ ਛੋਟੇ-ਫਾਰਮੈਟ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਮਾਈਕ੍ਰੋ-ਹੋਲ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਨੂੰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਆਯਾਤ ਕੀਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਗੈਲਵੈਨੋਮੀਟਰਾਂ ਦੁਆਰਾ ਬੀਮ ਡਿਫਲੈਕਸ਼ਨ ਦਾ ਉੱਚ-ਸਪੀਡ ਅਤੇ ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਨਿਯੰਤਰਣ;
3. ਹਾਈ-ਸਪੀਡ ਅਤੇ ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵੱਡੇ-ਫਾਰਮੈਟ ਮਾਈਕ੍ਰੋ-ਹੋਲ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਨੂੰ ਮਾਈਕ੍ਰੋਨ-ਪੱਧਰ ਦੇ ਹਾਈ-ਸਪੀਡ ਰੇਖਿਕ ਮੋਟਰ ਪਲੇਟਫਾਰਮ ਦੇ ਅਨੁਵਾਦ ਦੁਆਰਾ ਮਹਿਸੂਸ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ;
4. Z-ਧੁਰਾ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਮੋਟਾਈ ਦੀਆਂ ਸਮੱਗਰੀਆਂ ਦੇ ਅਨੁਕੂਲ ਹੋਣ ਅਤੇ ਖਾਸ ਟੇਪਰ ਹੋਲ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਲੋੜਾਂ ਨੂੰ ਪੂਰਾ ਕਰਨ ਲਈ ਇਲੈਕਟ੍ਰਿਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਅਨੁਕੂਲ ਹੈ;
5. ਰੇਂਜ ਐਕਸਿਸ ਸੁਪਰ-ਰੈਜ਼ੋਲਿਊਸ਼ਨ ਇੰਡਸਟਰੀਅਲ ਕੈਮਰੇ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਸਿਸਟਮ ਦੀ ਲੰਬੇ ਸਮੇਂ ਦੀ ਸਥਿਰਤਾ ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਨੂੰ ਯਕੀਨੀ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਗੈਲਵੈਨੋਮੀਟਰ, ਅਤਿ-ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਫੋਕਸਿੰਗ, ਅਤੇ ਔਨਲਾਈਨ ਮਾਪ ਦੀ ਪੂਰੀ-ਫ੍ਰੇਮ ਗਲਤੀ ਸੁਧਾਰ ਲਈ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ;
6. ਸਿਸਟਮ ਸਿਸਟਮ ਦੀ ਸਮੁੱਚੀ ਸਥਿਰਤਾ ਨੂੰ ਬਿਹਤਰ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਸੰਗਮਰਮਰ ਦੇ ਕਾਊਂਟਰਟੌਪਸ ਨੂੰ ਅਪਣਾਉਂਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਲੰਬੇ ਸਮੇਂ ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਨੂੰ ਯਕੀਨੀ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਸਾਰੇ ਮਕੈਨੀਕਲ ਭਾਗਾਂ ਨੂੰ ਧਿਆਨ ਨਾਲ ਚੁਣਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ;
7. ਨਿਊਨਤਮ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਮਾਈਕ੍ਰੋਪੋਰ ਵਿਆਸ 5μm ਹੈ, ਸਮੁੱਚੀ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ±4μm ਹੈ, ਸਥਾਨਕ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾ ਸ਼ੁੱਧਤਾ 3μm ਤੋਂ ਘੱਟ ਹੈ, ਅਤੇ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਚੌੜਾਈ 300*300mm ਹੈ;
8. ਇਹ ਧਾਤੂਆਂ, ਵਸਰਾਵਿਕਸ, ਸਿਲੀਕਾਨ ਵੇਫਰ, ਕੱਚ, ਜੈਵਿਕ ਅਤੇ ਹੋਰ ਸਮੱਗਰੀਆਂ ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਮਾਈਕ੍ਰੋ-ਹੋਲ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਕੱਟਣ ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਮਾਈਕ੍ਰੋਮੈਚਿਨਿੰਗ ਲਈ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।
EDM ਮਾਈਕਰੋ-ਹੋਲ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ, ਮਕੈਨੀਕਲ ਡ੍ਰਿਲਿੰਗ, ਰਸਾਇਣਕ ਖੋਰ, ਮਕੈਨੀਕਲ ਪੰਚਿੰਗ, ਆਦਿ ਦੇ ਮੁਕਾਬਲੇ, ਲੇਜ਼ਰ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਮਾਈਕ੍ਰੋ-ਹੋਲ ਮਸ਼ੀਨਿੰਗ ਦੇ ਹੇਠਾਂ ਦਿੱਤੇ ਫਾਇਦੇ ਹਨ:
ਹਾਈ ਸਪੀਡ (4000 ਹੋਲ ਪ੍ਰਤੀ ਸਕਿੰਟ ਤੱਕ)
ਉੱਚ ਸ਼ੁੱਧਤਾ (<3μm)
ਕੋਈ ਸਮੱਗਰੀ ਪਾਬੰਦੀਆਂ ਨਹੀਂ (ਧਾਤਾਂ, ਵਸਰਾਵਿਕਸ, ਸਿਲੀਕਾਨ ਵੇਫਰ, ਜੈਵਿਕ, ਆਦਿ)
ਪ੍ਰੋਗਰਾਮੇਬਲ ਹੋਲ ਪੈਟਰਨ (ਘੱਟੋ ਘੱਟ 5μm, ਖਾਸ ਟੇਪਰ ਹੋਲ)
ਵੰਡ ਨੂੰ ਅਨੁਕੂਲਿਤ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ (ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਚੌੜਾਈ 300mm * 300mm), ਕੋਈ ਉੱਲੀ ਅਤੇ ਮਾਸਕ ਦੀ ਲੋੜ ਨਹੀਂ
ਕੋਈ ਪ੍ਰਦੂਸ਼ਣ ਨਹੀਂ ਅਤੇ ਨਾ ਹੀ ਕੋਈ ਖਪਤਕਾਰ
ਸਿੱਧੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ
| ਇਕਾਈ | ਪੈਰਾਮੀਟਰ | FM-UVM3A | FM-UVM3B |
| ਲੇਜ਼ਰ | ਲਹਿਰ | 355nm | |
| ਤਾਕਤ | ＞3W@40kHz （3-40W ਵਿਕਲਪਿਕ） | ||
| ਸੰਚਾਲਨ ਬਾਰੰਬਾਰਤਾ | 1~200kHz | ||
| ਪਲਸ ਚੌੜਾਈ | 15ns@40kHz | ||
| ਬੀਮ ਗੁਣਵੱਤਾ | ~1.2 | ||
| ਗਾਲਵੋ | ਸਕੈਨ ਖੇਤਰ | ~50*50mm | ~15*15mm |
| ਦੁਹਰਾਉਣ ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ | ~1um | ||
| ਸਥਿਤੀ ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ | ≤±3um | ||
| XY ਟੇਬਲ | ਯਾਤਰਾ | 300*300mm （600*600mm ਵਿਕਲਪਿਕ） | |
| ਸਥਿਤੀ ਰੈਜ਼ੋਲੂਸ਼ਨ | 0.1um | ||
| ਦੁਹਰਾਉਣ ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ | ≤±1um | ||
| ਸਥਿਤੀ ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ | ≤±3um | ||
| ਪ੍ਰਵੇਗ | ≤1ਜੀ | ||
| ਗਤੀ | ≤200mm/s | ||
| Z ਧੁਰਾ | ਯਾਤਰਾ | 150mm | |
| ਦੁਹਰਾਉਣ ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ | ≤±3um | ||
| ਸਥਿਤੀ ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ | ≤±5um | ||
| CCD ਨਿਗਰਾਨੀ ਸਥਿਤੀ | ਕੈਮਰਾ | ਪੰਜ ਮੈਗਾਪਿਕਸਲ | |
| ਆਪਟੀਕਲ ਵਿਸਤਾਰ | 10 ਐਕਸ | ||
| ਖੇਤਰ ਵੰਡਣਾ | ਸ਼ੁੱਧਤਾ | ±3μm | |
| ਕਾਰਵਾਈ | ਘੱਟੋ-ਘੱਟ ਸਥਾਨ | 8um | 5um |
| ਮੋਰੀ ਨੂੰ ਕਾਰਵਾਈ ਕਰਨ ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ | ±5um | ||
| ਦੁਹਰਾਉਣ ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ | ≤±1um | ||
| ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਲਈ ਉਪਲਬਧ ਸਮੱਗਰੀ | ਕੱਚ, ਜੈਵਿਕ, ਧਾਤਾਂ, ਵਸਰਾਵਿਕਸ, ਆਦਿ। | ||
| GGGGA ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨ | ਪਾਈਪ ਦੀ ਬੋਤਲ | ok | ਚੰਗਾ |
| ਮਰਨ ਵਾਲੀ ਬੋਤਲ | ok | ਚੰਗਾ | |
| ਪਲਾਸਟਿਕ ਦੀ ਬੋਤਲ | ਵਧੀਆ ਨਹੀ | ok | |
| ਨਰਮ ਬੈਗ | ਉਪਲਬਧ ਨਹੀਂ | ok | |
| ਕੂਲਰ ਸਿਸਟਮ | ਵਾਟਰ ਕੂਲਿੰਗ (1500W ਕੂਲਿੰਗ ਸਮਰੱਥਾ) | ||
| ਬਿਜਲੀ ਦੀ ਸਪਲਾਈ | 220V, 50~60HZ, 1 ਪੜਾਅ ਜਾਂ ਅਨੁਕੂਲਿਤ | ||
| ਤਾਕਤ | ≤2000W | ||
| ਮਾਪ(ਮਿਲੀਮੀਟਰ) | 1200*1200*1900mm | ||
| ਭਾਰ (ਕਿਲੋਗ੍ਰਾਮ) | 1200 ਕਿਲੋਗ੍ਰਾਮ | ||
ਨੋਟ: ਸਥਿਰ ਤਾਪਮਾਨ (25±0.5℃), 30 ਮਿੰਟਾਂ ਲਈ ਪ੍ਰੀਹੀਟਿੰਗ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ
